本站原创摘要3-5
Abstract5-10
第一章 综述10-28
1.1 引言10-11
1.2 ZnO透明导电薄膜概述11-17
1.2.1 氧化物透明导电薄膜概述11-14
1.2.2 ZnO的基本性质14-17
1.3 ZnO的形态及制备技术17-23
1.3.1 ZnO体单晶17-18
1.3.2 ZnO薄膜18-19
1.3.3 ZnO薄膜的制备技术19-23
1.4 ZnO薄膜的运用23-24
1.4.1 在光电方面的运用23
1.4.2 在压电方面的运用23-24
1.4.3 在气敏方面的运用24
1.4.4 在稀磁方面的运用24
1.4.5 纳米ZnO的主要运用24
1.5 稀土元素概述及稀土元素在ZnO薄膜材料制备中的运用前景24-26
1.5.1 稀土的发光特性25
1.5.2 稀土元素在功能陶瓷和高温结构陶瓷方面的运用25
1.5.3 稀土元素在ZnO材料制备中的运用25-26
1.6 不足的提出及本论文的探讨方向26-28
1.6.1 不足的提出26-27
1.6.2 本论文的探讨方向27-28
第二章 实验历程与探讨策略28-42
2.1 溶胶-凝胶技术28-33
2.1.1 溶胶-凝胶法的技术进展28
2.1.2 溶胶-凝胶技术的特点28-29
2.1.3 溶胶-凝胶法在稀土发光材料制备方面的运用29-30
2.1.4 溶胶-凝胶法的原理30
2.1.5 溶胶-凝胶制备技术的关键30-31
2.1.6 溶胶-凝胶法制备薄膜的常用工艺31-32
2.1.7 溶胶-凝胶工艺的展望32-33
2.2 本实验所采取的试剂及实验准备33-35
2.2.1 实验试剂33-34
2.2.2 衬底基片的选择和预处理34-35
2.3 实验案例35
2.4 实验策略35-36
2.4.1 采取分液漏斗和试管的装置提拉制备ZnO薄膜35-36
2.4.2 采取烧杯和输液管提拉装置制备ZnO薄膜36
2.5 薄膜的制备历程36-37
2.6 实验所用仪器以及浅析所用设备37-42
2.6.1 X射线衍射浅析(XRD)38-39
2.6.2 扫描电镜(SEM)39-40
2.6.3 拉曼光谱浅析40-42
第三章 Y~(3+)掺杂ZnO薄膜的实验结果浅析42-53
3.1 Y~(3+)掺杂浓度变化对薄膜性质的影响42-46
3.1.1 Y~(3+)掺杂浓度不同时的XRD浅析42-43
3.1.2 Y~(3+)掺杂浓度不同时的SEM浅析43-44
3.1.3 Y~(3+)掺杂浓度不同时的紫外浅析44-46
3.1.4 Y~(3+)掺杂浓度不同时薄膜方块电阻浅析46
3.2 镀膜层数变化对Y~(3+)掺杂薄膜性质的影响46-48
3.2.1 镀膜层数不同时ZnO:Y薄膜的XRD浅析46-47
3.2.2 镀膜层数不同时ZnO:Y薄膜的紫外浅析47
3.2.3 镀膜层数不同时ZnO:Y薄膜的方块电阻浅析47-48
3.3 热处理温度对Y~(3+)掺杂薄膜性质的影响48-51
3.3.1 热处理温度不同时ZnO:Y薄膜的XRD浅析48-49
3.3.2 热处理温度不同时ZnO:Y薄膜的SEM浅析49-50
3.3.3 热处理温度不同时ZnO:Y薄膜的紫外浅析50
3.3.4 热处理温度不同时ZnO:Y薄膜的拉曼光谱浅析50-51
3.4 小结51-53
第四章 Nd~(3+)掺杂ZnO薄膜的结果浅析53-60
4.1 Nd~(3+)掺杂不同浓度对薄膜性能的影响53-54
4.1.1 Nd~(3+)掺杂浓度不同时的XRD浅析53-54
4.1.2 Nd~(3+)掺杂浓度不同时的紫外浅析54
4.2 不同热处理温度对Nd~(3+)掺杂ZnO薄膜性能的影响54-57
4.2.1 不同热处理温度时ZnO:Nd薄膜SEM浅析54-55
4.2.2 不同热处理温度时ZnO:Nd薄膜的紫外浅析55-56
4.2.3 不同热处理温度时ZnO:Nd薄膜的方块电阻56-57
4.3 Nd~(3+)掺杂ZnO薄膜与Y~(3+)掺杂ZnO薄膜的比较57-58
4.3.1 Y~(3+)和Nd~(3+)掺杂ZnO薄膜方块电阻的比较57-58
4.3.2 Y~(3+)和Nd~(3+)掺杂ZnO薄膜透光率的比较58
4.4 稀土元素掺杂ZnO薄膜与AZO薄膜的比较58
4.5 小结58-60
第五章 结论60-62
5.1 结论60-61
5.2 实验中有着的不足以及今后的探讨方向61-62
致谢62-64