本站原创摘要4-5
Abstract5-10
第1章 绪论10-33
1.1 课题背景10
1.2 黄铜矿相薄膜太阳电池材料探讨概述10-17
1.3 硅纳米线薄膜材料探讨概述17-26
1.3.1 硅纳米线的制备策略18-23
1.3.2 硅纳米线的运用概述23-26
1.4 表面增强拉曼散射探讨概述26-30
1.5 本论文的探讨内容30-33
第2章 黄铜矿相薄膜太阳电池材料的制备和改性探讨33-60
2.1 引言33-35
2.2 实验装置及实验策略35-38
2.2.1 基片的处理35-36
2.2.2 电化学沉积装置36-37
2.2.3 真空退火和 Zn 掺杂装置37-38
2.3 薄膜的浅析与表征38-42
2.3.1 X 射线衍射浅析(XRD)38-39
2.3.2 扫描电子显微镜(SEM)39
2.3.3 X 射线光电子能谱(XPS)39
2.3.4 X 射线荧光光谱浅析(XRF)39
2.3.5 俄歇电子能谱(AES)39-40
2.3.6 拉曼光谱浅析（Raman）40
2.3.7 霍尔效应(HE)测试40-41
2.3.8 伏安曲线测试（I-V）41-42
2.4 CuInSe_2薄膜的制备及改性42-53
2.4.1 溶液组成对电化学沉积 CuInSe2薄膜的影响42-43
2.4.2 搅拌对电化学沉积 CISe 薄膜的影响43
2.4.3 CISe 薄膜的真空退火处理43-45
2.4.4 CISe 薄膜的 Zn 掺杂45-53
2.5 CuInS_2薄膜的制备和表征53-58
2.6 本章小结58-60
第3章 硅纳米线薄膜的制备及其性能60-98
3.1 引言60-64
3.1.1 多孔硅纳米线薄膜60-62
3.1.2 硅纳米结构减反射薄膜62-64
3.2 薄膜的制备和表征64-66
3.2.1 硅纳米线阵列薄膜的制备策略64
3.2.2 多孔硅纳米线阵列薄膜的制备策略64-65
3.2.3 硅纳米结构减反射薄膜的制备策略65
3.2.4 薄膜的浅析与表征65-66
3.3 硅纳米线薄膜的制备66-73
3.3.1 HF-AgNO_3沉积溶液系统制备硅纳米线阵列66-69
3.3.2 NH4F-AgNO_3沉积溶液系统制备硅纳米线阵列69-73
3.4 多孔硅纳米线薄膜的制备和表征73-92
3.4.1 基于单晶硅的多孔硅纳米线薄膜73-78
3.4.2 基于多晶硅的多孔硅纳米线薄膜78-85
3.4.3 多孔硅纳米线的钝化85-90
3.4.4 多孔硅纳米线的形成机制90-91
3.4.5 多孔硅纳米线薄膜的表面润湿性能91-92
3.5 硅纳米结构减反射薄膜的制备和表征92-97
3.5.1 硅纳米结构减反射薄膜的制备92-95
3.5.2 硅纳米结构薄膜的减反射性能95-97
3.6 本章小结97-98
第4章 表面增强拉曼散射薄膜基底的制备和表征98-112
4.1 引言98-99
4.2 薄膜的制备和测试99-100
4.2.1 包覆银纳米颗粒的硅纳米线 SERS 基底的制备99
4.2.2 Ag 树枝晶 SRES 基底的制备99
4.2.3 浅析策略99-100
4.3 包覆 Ag 纳米颗粒的硅纳米线薄膜100-105
4.4 Ag 树枝晶结构薄膜105-111
4.5 本章小结111-112
第5章 结论112-114