摘要5-7
ABSTRACT7-13
第1章 绪论13-25
1.1 引言13-14
1.2 薄膜的生长14-15
1.3 超硬薄膜材料介绍15-20
1.3.1 本征硬质薄膜15
1.3.2 纳米多层膜15-18
1.3.3 纳米复合膜18-20
1.4 摩擦磨损历程的影响因素和探讨策略20-23
1.4.1 摩擦历程的影响因素及种类20-21
1.4.2 物体接触与实际接触面积21
1.4.3 磨损历程的主要类型21-23
1.5 选题作用与探讨内容23-25
1.5.1 选题作用23-24
1.5.2 探讨内容24-25
第二章 薄膜的制备与表征策略25-33
2.1 薄膜的制备策略与实验设备25-28
2.1.1 薄膜的制备策略25-26
2.1.2 实验设备26-27
2.1.3 薄膜基片处理策略27-28
2.2 薄膜检测策略与检测设备28-33
2.2.1 扫描电子显微镜(SEM)28
2.2.2 X 射线衍射(XRD)28-29
2.2.3 能量色散谱仪29
2.2.4 纳米压痕仪和划痕仪29-32
2.2.5 高温摩擦磨损测试仪32-33
第3章 磁控溅射 W-N 薄膜的微结构、机械性能和摩擦学性能33-44
3.1 引言33
3.2 实验策略33-35
3.3 结果与讨论35-43
3.3.1 W-N 薄膜沉积速率随氮气含量的变化35-36
3.3.2 W-N 薄膜的显微结构36-38
3.3.3 W-N 薄膜的硬度和弹性模量38-39
3.3.4 W-N 薄膜的膜基结合力39-40
3.3.5 W-N 薄膜的摩擦学性能40-43
3.4 结论43-44
第4章 W-C-N 纳米复合薄膜的性能探讨44-56
4.1 引言44-45
4.2 实验材料及策略45-46
4.3 结果与讨论46-55
4.3.1 W-C-N 纳米复合薄膜的微结构46-47
4.3.2 W-C-N 纳米复合薄膜的力学性能47-48
4.3.3 W-C-N 纳米复合薄膜的摩擦学性能48-55
4.4 结论55-56
第5章 基体负偏压对 W-C-N 薄膜摩擦磨损性能的影响56-71
5.1 引言56-57
5.2 实验策略57-59
5.3 结果与讨论59-70
5.3.1 负偏压对 W-C-N 薄膜微结构的影响59
5.3.2 负偏压对 W-C-N 薄膜硬度和弹性模量的影响59-60
5.3.3 负偏压对 W-C-N 薄膜表面形貌的影响60-62
5.3.4 负偏压对 W-C-N 薄膜基体温度的影响62
5.3.5 负偏压对 W-C-N 薄膜膜基结合力的影响62-63
5.3.6 负偏压对 W-C-N 薄膜摩擦磨损性能的影响63-70
5.4 结论70-71
第6章 纳米多层膜 Ti-Al-Si-N/W-N 的结构及性能探讨71-83
6.1 引言71-72
6.2 实验材料及策略72-73
6.2.1 薄膜的制备72-73
6.2.2 薄膜的表征73
6.3 实验结果73-82
6.3.1 Ti-Al-Si-N/W-N 多层膜的结构73-75
6.3.2 Ti-Al-Si-N/W-N 多层膜的硬度和弹性模量75-77
6.3.3 Ti-Al-Si-N/W-N 多层膜的摩擦磨损性能77-82
6.4 结论82-83
结论83-85