摘要5-7
Abstract7-9
目录9-13
第1章 绪论13-23
1.1 超导的发现13-14
1.1.1 超导现象的发现13
1.1.2 超导材料的发现13-14
1.2 高温超导材料的运用14
1.3 国内外超导材料的探讨近况14-16
1.3.1 中国高温超导材料探讨近况15
1.3.2 国外高温超导材料探讨近况15-16
1.4 高温超导带材的基本结构及制备策略16-21
1.4.1 高温超导带材的基本结构16-19
1.4.2 高温超导带材的制备19-21
1.5 本论文的探讨作用及主要探讨内容21-23
1.5.1 本论文的探讨作用21
1.5.2 本论文的主要探讨内容21-23
第2章 实验原理及性能测试策略23-29
2.1 实验原理及策略23
2.2 薄膜性能测试策略23-26
2.2.1 光学显微镜观测23-24
2.2.2 X射线衍射浅析24-25
2.2.3 扫描电子显微镜25-26
2.3 YBCO薄膜超导电性浅析26-29
2.3.1 临界转变温度T_c26-28
2.3.2 临界电流密度J_c28-29
第3章 NiW基带上沉积SrTiO_3缓冲层29-41
3.1 引言29
3.2 实验仪器及实验原料29-30
3.2.1 实验仪器29-30
3.2.2 实验原料30
3.3 STO种子层的制备30-31
3.3.1 前驱液的配制30
3.3.2 基底清洗30-31
3.3.3 STO种子层薄膜涂覆与热处理31
3.4 STO缓冲层薄膜的制备31
3.5 不同工艺参数对STO薄膜性能的影响31-39
3.5.1 种子层烧结温度对STO缓冲层薄膜结构的影响31-33
3.5.2 种子层厚度对STO缓冲层薄膜性能的影响33-35
3.5.3 不同烧结时间对STO缓冲层薄膜性能的影响35-38
3.5.4 不同种子层对STO缓冲层薄膜物相的影响38-39
3.6 本章小结39-41
第4章 NiW基带上沉积La_(0.4)Sr_(0.6)TiO_3缓冲层41-56
4.1 引言41
4.2 实验仪器及实验原料41-42
4.2.1 实验仪器41
4.2.2 实验原料41-42
4.3 种子层的制备42-43
4.3.1 前驱液的配制42-43
4.3.2 种子层薄膜涂覆及热处理43
4.4 LSTO薄膜的制备43-44
4.5 不同工艺参数对LSTO薄膜性能的影响44-54
4.5.1 热处理温度对LSTO薄膜性能的影响44-47
4.5.2 种子层对LSTO薄膜性能的影响47-50
4.5.3 烧结时间对LSTO薄膜性能的影响50-52
4.5.4 高温阶段降温速率对LSTO薄膜取向的影响52-54
4.6 本章小结54-56
第5章 MOD法在STO及LSTO缓冲层上外延生长YBCO薄膜56-72
5.1 引言56
5.2 实验原料56-57
5.3 YBCO薄膜的制备57-60
5.3.1 前驱液的配制57
5.3.2 YBCO薄膜的涂覆及热处理57
5.3.3 YBCO前驱液的热重实验57-58
5.3.4 YBCO粉末的制备58-59
5.3.5 YBCO热处理路线的确定59-60
5.4 不同工艺参数对YBCO薄膜性能的影响60-70
5.4.1 热处理气氛对YBCO薄膜性能的影响60-62
5.4.2 热处理温度对YBCO薄膜性能的影响62-66
5.4.3 低温阶段升温时间对YBCO薄膜性能的影响66-68
5.4.4 缓冲层厚度对YBCO薄膜性能的影响68-70
5.5 本章小结70-72
第6章 结论72-73