超导体铁基超导薄膜制备与稀土锗基合金成相规律学术

摘要5-6

Abstract6-9

第一部分 铁基超导薄膜的制备技术9-26

第1章 引言10-14

1.1 超导的探讨历史10-11

1.2 超导运用11

1.3 铁基超导体介绍11-13

1.4 本部分论文工作13-14

第2章 样品制备及表征技术14-20

2.1 薄膜制备历程14

2.2 靶材烧结14-15

2.3 薄膜样品制备15-16

2.4 薄膜样品的表征16-20

2.4.1 结构表征16-18

2.4.2 成分浅析18

2.4.3 形貌浅析18-19

2.4.4 电磁测量19-20

第3章 FeTe超导薄膜的制备及表征20-25

3.1 铁基超导体薄膜的探讨及作用20

3.2 样品的制备及表征20-24

3.2.1 FeTe靶材结构及电磁性能20-23

3.2.2 FeTe薄膜结构及电磁性能23-24

3.3 薄膜超导机理浅谈24-25

第4章 结果与讨论25-26

第二部分 稀土锗基合金成相规律探讨26-55

第1章 绪论27-29

1.1 磁半导体的探讨历史27-28

1.2 本论文工作28-29

第2章 实验策略及原理29-39

2.1 样品制备29-30

2.2 X射线粉末衍射法原理30-35

2.2.1 X射线产生和特性30-31

2.2.2 X射线的衍射方向31-32

2.2.3 X射线的衍射线强度32-35

2.3 多晶粉末的衍射强度35-36

2.4 Rietveld精修原理36-39

第3章 实验结果浅析39-51

3.1 样品概述39

3.2 NdGeMn系统物相浅析39-42

3.3 SmGeMn系统物相浅析42-45

3.4 GdGeMn系统物相浅析45-47

3.5 TbGeMn系统物相浅析47-51

第4章 结果与讨论51-55

4.1 RGe_(n-x)Mn_x系统合金成相规律浅析51

4.2 RGe_(3-x)Mn_x(R=Gd,Tb)未知相处理51-55

4.2.1 GdGe_(3-x)Mn_x未知相处理51-53

4.2.2 TbGe_(3-x)Mn_x未知相处理53-55

第三部分 结论与展望55-57