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摘要：随着光电技术的快速进展,当代光学系统对非球面光学元件精度要求变得越来越高、非球面种类越来越多,由此非球面数控抛光加工技术有着重要的作用和实用价值。本论文首先对非球面数控抛光技术在国内外的发现展近况进行总结,又浅析了非球面光学元件在未来的运用前景,并对现代非球面抛光技术中所在的不足进行了浅析和总结。其次,详细浅析了数控抛光技术的原理,主要介绍了普林斯顿方程的基本原理及去除函数的特性等。在此基础上,对边缘效应产生的理由进行了浅析,并且通过计算机仿真对去除函数的优化策略进行了深入探讨。对驻留时间的算法以及影响残留误差的参数进行了优化。最后,根据设计算法,设计抛光工艺软件,对系统进行总体软硬件测试,抛光加工实验完成了设计要求和参数。关键词：非球面论文抛光论文驻留时间论文边缘效应论文
摘要4-5
ABSTRACT5-6
目录6-7
第一章 绪论7-10
1.1 引言7-8
1.2 国内外进展近况8-9
1.3 论文的主要探讨内容9-10
第二章 计算机制约抛光原理10-17
2.1 普林斯顿(Preston)方程10-11
2.2 抛光历程的数学模型11-12
2.3 计算机制约小工具抛光的设计思路12-13
2.4 边缘效应13-16
2.5 本章小结16-17
第三章 去除函数的优化17-26
3.1 趋近因子法17-20
3.2 分时合成法20-25
3.3 本章小结25-26
第四章 面形误差的优化制约26-41
4.1 驻留时间算法26-33
4.2 残留误差的卷积效应33-34
4.3 去除函数对残留误差影响34-35
4.4 进给步距对残留误差的影响35-36
4.5 抛光历程中的参数补偿36-40
4.6 本章小结40-41
第五章 非球面抛光软件与加工实验41-50
5.1 引言41
5.2 软件的总体结构41-42
5.3 软件的主要功能模块42-47
5.4 抛光加工实验47-49
5.5 本章小结49-50
第六章 全文总结50-51
致谢51-52