本站原创摘要3-5
ABSTRACT5-12
第一章 前言12-16
1.1 分子级空气污染物的定义及分类12-13
1.2 分子级空气污染物的污染源及制约策略浅析13-14
1.2.1 分子级空气污染物的污染源浅析13
1.2.2 分子级空气污染物的污染源制约策略13-14
1.3 浅析仪器在半导体AMC制约方面的运用及前景14-15
1.4 论文的主要内容与章节安排15-16
1.4.1 论文的主要内容15
1.4.2 论文的章节安排15-16
第二章 离子色谱和预浓缩气相色谱质谱介绍16-28
2.1 色谱的基本概念16
2.2 离子色谱介绍16-23
2.2.1 离子色谱的原理16-20
2.2.2 离子色谱的定量策略20-21
2.2.3 离子色谱的优点21
2.2.4 实验仪器及样品浅析策略21-23
2.3 预浓缩气相色谱质谱介绍23-27
2.3.1 预浓缩气相色谱质谱的原理23-25
2.3.2 预浓缩气相色谱质谱的定量策略25-26
2.3.3 预浓缩气相色谱质谱的优点26
2.3.4 实验仪器及色谱条件26-27
2.4 本章小结27-28
第三章 造成 CRYSTALDEFECT 的氟离子来源探讨28-39
3.1 Crystal defect及原因介绍28-29
3.2 造成Crystal defect的氟离子来源探讨29-31
3.2.1 分批实验验证氟离子来源29-30
3.2.2 Pod内部氟离子污染测试30-31
3.3 Pod和cassette中氟离子来源及机理探讨31-35
3.3.1 pod和cassette中氟离子来源探讨31-34
3.3.2 Pod和cassette污染机理探讨34-35
3.4 Pod和cassette清洗策略及机理探讨35-38
3.4.1 Pod和cassette清洗策略探讨35-37
3.4.2 清洗机理探讨37-38
3.5 本章小结38-39
第四章 引起 CRATER DEFECT 的理由及 VOC 来源探讨39-50
4.1 Crater defect介绍39-41
4.2 Crater defect与VOC的相关性探讨41-42
4.3 甲苯实验验证crater defect与VOC的联系42-44
4.4 Crater defect的形成机理44-45
4.5 VOC污染源探讨45-48
4.5.1 外源污染45-46
4.5.2 内源污染46-48
4.6 本章小结48-50
第五章 引起缺陷的环境因素的制约策略50-69
5.1 氟离子污染源制约策略51-59
5.1.1 洁净室大环境制约51-57
5.1.2 晶片小环境制约57-59
5.2 VOC污染源制约策略59-67
5.2.1 洁净室大环境制约59-65
5.2.2 污染源源头制约65-67
5.3 本章小结67-69
第六章 结论与展望69-73
6.1 结论69-71
6.2 展望71-73